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光刻技術（photolithography）是一種圖形復印技術，是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。
光刻能力：利用電子束光刻、步進式光刻、接觸式紫外光刻，多種技術相結合圖形最小線寬可達8nm。可制作大于8nm線寬的任何復雜圖形。